Sökning: "physical vapor deposition"
Visar resultat 1 - 5 av 20 uppsatser innehållade orden physical vapor deposition.
1. (1,3-di-tert-butyltriazenide) Cu(I) as vapor deposition precursor
Kandidat-uppsats, Linköpings universitet/KemiSammanfattning : In the past few decades, devices such as computers have become smaller, and their performance has improved beyond comparison. Semiconductors and interconnectors are used in almost all devices today and are made of thin films. LÄS MER
2. Magnetron Sputter Epitaxy of High-quality GaNand Plasma Characterization of the Process : Degree Project–Master’s Thesis
Master-uppsats, Linköpings universitet/TunnfilmsfysikSammanfattning : Several sputtering depositions were done by direct current (DC) magnetron sputtering epitaxy (MSE) techniquefor the goal of improving the growth rate and crystalline quality of GaN thin film on Al2O3 substrate. Thegrowth rate was higher when substrate-to-target distance D = 7 cm compared with D = 9. LÄS MER
3. En förstudie av alternativa saltbehandlingar.
M1-uppsats, Örebro universitet/Institutionen för naturvetenskap och teknikSammanfattning : Företaget Nobel Biocare tillverkar tandimplantat. Då tandimplantat används i munnen är den medicinska nivån hög och strikt. För att benet runt implantatet ska läka snabbare används en saltlösning på tandimplantaten. Saltlösningen appliceras i nuläget genom ett saltbad och sen ett justeringssteg för att avlägsna överflödigt salt. LÄS MER
4. Cu2O/TiO2 Nanorod Heterojunctions: Synthesis, Characterization and Applications as Solar Cells on the Nanoscale
Master-uppsats, Luleå tekniska universitet/Institutionen för teknikvetenskap och matematikSammanfattning : Novel solar cells are being synthesized from sustainable, non-toxic, and economic materials. All metal oxide semiconductors are one such class of these materials. LÄS MER
5. Corrosion studies on multicomponent TiZrNbTa thin films
Uppsats för yrkesexamina på avancerad nivå, Uppsala universitet/StrukturkemiSammanfattning : The goal of this work was to evaluate the electrochemical properties of TiZrNbTa thin films deposited by magnetron sputtering using an industrial physical vapor deposition system. Samples were deposited on both Si(001) and 316L stainless steel. LÄS MER